The formation of nanostructures on silicon surfaces in the presence of hydrogen (1997)
Source: Applied Physics Letters. Unidade: IFSC
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
TESCHKE, O. e SOARES, D. M. e NUNES, Luiz Antônio de Oliveira. The formation of nanostructures on silicon surfaces in the presence of hydrogen. Applied Physics Letters, v. 70, n. 21, p. 2840-2842, 1997Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.119055. Acesso em: 03 maio 2024.APA
Teschke, O., Soares, D. M., & Nunes, L. A. de O. (1997). The formation of nanostructures on silicon surfaces in the presence of hydrogen. Applied Physics Letters, 70( 21), 2840-2842. doi:10.1063/1.119055NLM
Teschke O, Soares DM, Nunes LA de O. The formation of nanostructures on silicon surfaces in the presence of hydrogen [Internet]. Applied Physics Letters. 1997 ; 70( 21): 2840-2842.[citado 2024 maio 03 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.119055Vancouver
Teschke O, Soares DM, Nunes LA de O. The formation of nanostructures on silicon surfaces in the presence of hydrogen [Internet]. Applied Physics Letters. 1997 ; 70( 21): 2840-2842.[citado 2024 maio 03 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.119055
